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二氧化硅檢驗(yàn)方法--揮散法二氧化硅的測定方法有多種，本篇主要介紹揮散法。 若某個(gè)試樣中二氧化硅的含量在98%以上，應(yīng)用氫氟酸揮發(fā)重量差減法（即揮散法）來測定SiO2含量。 具體測定步驟如下： 將鉑坩堝中測定過燒失量的試樣，用少量水潤濕，加入4～5滴硫酸及5～7mL氫氟酸，放在電爐上低溫加熱，揮發(fā)至近干時(shí)，取下放冷，再加2～3滴硫酸及3～4mL氫氟酸，繼續(xù)加熱揮發(fā)至干，然后升高溫度，至三氧化硫白煙完全逸盡。將鉑坩堝置于高溫爐中，于950℃溫度下灼燒30分鐘，取出放在干燥器中冷至室溫，稱重。如此反復(fù)灼燒，直至恒重。 SiO2=×100 G1——測燒失量時(shí)灼燒后試樣和坩堝的重量,g； G2——?dú)堅(jiān)哇釄宓闹亓?g； G——試樣的重量，g； 若試樣中SiO2含量在98%以下，采用上述方法測定SiO2將引起較大的誤差。這種情況下，宜采用重量法或氟硅酸鉀容量法來測定。 |
